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AIXUV erhält BMBF-Förderung für EUV-Forschung

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Düsseldorf/Aachen, 15.08.2008. Für das Verbundprojekt „EUV-Charakterisierung von EUV-Masken und Maskenblanks“ wurde vom Bundesministerium für Bildung und Forschung ein Forschungsvorhaben mit einem Volumen von fast 1,5 Mio. Euro bewilligt.

Die Zuwendung für das von der Aachener AIXUV GmbH initiierte Projekt erfolgt im Rahmen des Förderungsprogramms für innovative kleine und mittlere Unternehmen „KMU Innovativ Initiative“. Förderungsempfänger sind die AIXUV GmbH mit bis zu 881.000 Euro sowie der Lehrstuhl für die Technologie optischer Systeme der RWTH Aachen (RWTH-TOS) und das Fraunhofer Institut für Lasertechnik (FhG ILT), die in enger Zusammenarbeit mit AIXUV grundlegende Fragestellungen bearbeiten. Die AIXUV GmbH als Projektkoordinator ist eine Beteiligungsgesellschaft der Düsseldorfer Venture Capital Gesellschaft Stars Innovation AG.

Hintergrund dieses Forschungsprojekts ist die fortschreitende Miniaturisierung in der Halbleiterindustrie. Mit der konventionellen Lithographietechnik (bei Wellenlänge 193 nm) werden heute in kommerzieller Herstellung 65 nm kleine Strukturen auf Halbleiterelementen abgebildet. Eine weitere Verkleinerung bis auf 22 nm wird von der Halbleiterindustrie angestrebt. Um solche und noch viel kleinere Strukturen abbilden zu können und auch auf längere Sicht zukunftsfähig zu sein, ist die Herabsetzung der verwendeten Wellenlänge in den Extremen UV-Bereich (EUV, Wellenlänge 13,5 nm) notwendig. Weltweit arbeiten alle großen Chip-Hersteller und ihre Zulieferer an der neuen EUV-Lithografie.

Die lithographische Darstellung von Strukturen dieser Größenordnung stellt nicht nur an die Produktionsgeräte extreme und ständig steigende Anforderungen, sondern auch an die Messinstrumente, die die Qualität der industriellen Chip-Herstellung sicherstellen sollen. Um diesen gerecht zu werden, wird AIXUV sein weltweit vermarktetes EUV-Reflektometer MBR weiter verbessern.. Damit wird ein Optimum zwischen hoher Auflösung des Meßflecks und hohem Durchsatz gewährleistet. Zusätzlich wird der Prototyp einer neu entwickelten EUV-Lampe mit >100 W EUV-Leistung („10 W inband“) optimiert, getestet und für grundlegende Experimente eingesetzt.


Die AIXUV GmbH ist eine Ausgründung des Fraunhofer Instituts für Lasertechnik und des Lehrstuhls für Lasertechnik der RWTH Aachen aus dem Jahr 2000. Ihr Geschäftsfeld ist die Entwicklung und Herstellung von EUV-Lichtquellen sowie Mess- und Analyse-Systemen für die EUV-Lithographie und weitere Anwendungen in der Nanotechnologie.

Die Stars Innovation AG, eine Düsseldorfer Venture Capital-Gesellschaft, wurde 2005 gegründet. Sie investiert in junge Unternehmen, meist Ausgründungen von Universitäten und Forschungsinstituten, die innovative Konzepte auf der Basis von Nanotechnologie entwickeln und umsetzen. Die Investitionsmittel kommen von privaten Anlegern, die ausserbörslich am Erfolg von ausgesuchten HighTech-Unternehmen beteiligt sein wollen.


Für den Inhalt der Pressemitteilung ist der Einsteller, Kuhrt Kommunikation, verantwortlich.

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